HORIBA 研究級經(jīng)(jīng)典型橢偏儀
簡(jiǎn)(jiǎn)要描述：HORIBA 研究級經(jīng)(jīng)典型橢偏儀是一種無(wú)(wú)損無(wú)(wú)接觸的光學(xué)(xué)測量技術(shù)(shù)，基于測量線(xiàn)(xiàn)偏振光經(jīng)(jīng)過(guò)(guò)薄膜樣品反射后偏振狀態(tài)(tài)發(fā)(fā)生的改變，通過(guò)(guò)模型擬合后得到薄膜、界面和表面粗糙層的厚度以及光學(xué)(xué)性質(zhì)(zhì)等等，可測厚度范圍為幾埃至幾十微米。此外，還可以測試材料的反射率及透過(guò)(guò)率。
產(chǎn)(chǎn)品型號：UVISEL Plus- 廠(chǎng)(chǎng)商性質(zhì)(zhì)：生產(chǎn)(chǎn)廠(chǎng)(chǎng)家
- 更新時(shí)(shí)間：2023-06-06
- 訪(fǎng)(fǎng) 問(wèn)(wèn) 量：1513
HORIBA 研究級經(jīng)(jīng)典型橢偏儀簡(jiǎn)(jiǎn)介：
橢圓偏振光譜是一種無(wú)(wú)損無(wú)(wú)接觸的光學(xué)(xué)測量技術(shù)(shù)，基于測量線(xiàn)(xiàn)偏振光經(jīng)(jīng)過(guò)(guò)薄膜樣品反射后偏振狀態(tài)(tài)發(fā)(fā)生的改變，通過(guò)(guò)模型擬合后得到薄膜、界面和表面粗糙層的厚度以及光學(xué)(xué)性質(zhì)(zhì)等等，可測厚度范圍為幾埃至幾十微米。此外，還可以測試材料的反射率及透過(guò)(guò)率。
技術(shù)(shù)參數：
* 光譜范圍: 190-885 nm（可擴展至2100nm）
* 微光斑可選50μm-100μm-1mm
* 探測器：分別針對紫外，可見(jiàn)(jiàn)和近紅外提供優(yōu)(yōu)化的PMT和IGA探測器
* 自動(dòng)(dòng)樣品臺尺寸：多種樣品臺可選
* 自動(dòng)(dòng)量角器：變角范圍40° - 90°，全自動(dòng)(dòng)調整，小步長(cháng)(cháng)0.01°
主要特點(diǎn)(diǎn)：
* 50KHz 高頻PEM 相調制技術(shù)(shù)，測量光路中無(wú)(wú)運動(dòng)(dòng)部件
* 具備超薄膜所需的測量精度，超厚膜所需的高光譜分辨率
* 具有毫秒級超快動(dòng)(dòng)態(tài)(tài)采集模式，可用于在線(xiàn)(xiàn)實(shí)(shí)時(shí)(shí)監測
* 自動(dòng)(dòng)平臺樣品掃描成像、變溫臺、電化學(xué)(xué)反應池、液體池、密封池等多種附件
* 配置靈活
